先端技術トピックス

キオクシアで研究開発を進めている最新技術など参考になるトピックスをわかりやすく解説します。

デバイス技術

10年先を見据えた新しい概念や、新しい物理現象に基づく、未だ誰も見たことのないメモリの基礎的な構造・材料・設計、シミュレーション等の研究開発を行います。

新規メモリ開発

新規メモリ開発

テラビット級の高集積を目指すイオンメモリ

テラビット級の高集積を目指すイオンメモリ

TCAD技術開発

新規酸化物半導体InAlZnOをチャネルに用いた短チャネル

BiCS FLASH™開発

BiCS FLASH™開発

Twin BiCS FLASH ~3次元フラッシュメモリの更なる大容量化を実現する半円型構造セル~

Twin BiCS FLASH ~3次元フラッシュメモリの更なる大容量化を実現する半円型構造セル~

TCAD技術開発

TCAD技術開発

ナノ材料の評価技術

ナノ材料の評価技術

3次元フラッシュメモリ向け単結晶シリコンチャネルプロセス技術の開発

3次元フラッシュメモリ向け単結晶シリコンチャネルプロセス技術の開発

3次元フラッシュメモリ向け単結晶シリコンチャネルプロセス技術の開発

高積層3次元フラッシュメモリにおける高速読出し/書込みのためのサイリスタ動作

ナノ材料の評価技術

低消費電力高集積AI応用に向けたHfO2系強誘電メモリ

ナノ材料の評価技術

フッ素添加による高耐熱性と高オン電流を両立する酸化物半導体FETチャネル材料の設計

プロセス技術

価値ある要素プロセス技術の創出、メモリ製品の競争力を高める生産技術の創出を目指しています。またその実現のため、最先端の検査計測分析技術も開発しています。

次世代リソグラフィプロセス技術 ~ナノインプリント技術~

次世代リソグラフィプロセス技術 ~ナノインプリント技術~

次世代デバイス向け分析技術

次世代デバイス向け分析技術

機械学習を活用した画像処理技術

機械学習を活用した画像処理技術

BiCS FLASH™を支えるRIE技術

BiCS FLASH™を支えるRIE技術

ナノインプリントリソグラフィによるハーフピッチ14nm一括パターンニング技術開発

ナノインプリントリソグラフィによるハーフピッチ14nm一括パターンニング技術開発

システム技術

「メモリを使いこなす技術」の研究開発を推進し、付加価値の高い次世代のメモリを活用したストレージシステム・メモリシステム関連の基盤技術の研究開発を進めます。

HMB技術開発とDRAMレスSSDの実現

HMB技術開発とDRAMレスSSDの実現

高速・省エネルギーのディープラーニング向けアルゴリズムとHWアーキテクチャの開発

高速・省エネルギーのディープラーニング向けアルゴリズムとHWアーキテクチャの開発

高速大容量ストレージ向け25.6Gb/s リング・トポロジー型インターフェース

高速大容量ストレージ向け25.6Gb/s リング・トポロジー型インターフェース

ソートベンチマークコンテストにおいて「KioxiaSort」がワールドレコード更新

ソートベンチマークコンテストにおいて「KioxiaSort」がワールドレコード更新

ネットワークストレージ技術

ネットワークストレージ技術

ネットワークストレージ技術

DRAM代替を目指したXL-FLASH™によるデータベース性能比較実証

生産管理技術

生産に伴う膨大なデータ。その全てをデジタル化し、管理・解析するためには高度なデジタル解析技術が必要です。最先端のDXそしてAI技術の研究開発を日々推進しています。

工場イノベーション

工場イノベーション